Low-temperature dark anneal as pre-treatment for LeTID in multicrystalline silicon

Marko Yli-Koski, Michael Serué, Chiara Modanese, Henri Vahlman, Hele Savin*

*Tämän työn vastaava kirjoittaja

Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

18 Sitaatiot (Scopus)
283 Lataukset (Pure)

Sormenjälki

Sukella tutkimusaiheisiin 'Low-temperature dark anneal as pre-treatment for LeTID in multicrystalline silicon'. Ne muodostavat yhdessä ainutlaatuisen sormenjäljen.

Engineering

Physics

Biochemistry, Genetics and Molecular Biology

Material Science

Chemical Engineering