Low-temperature dark anneal as pre-treatment for LeTID in multicrystalline silicon

Marko Yli-Koski, Michael Serué, Chiara Modanese, Henri Vahlman, Hele Savin*

*Tämän työn vastaava kirjoittaja

Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli › Article › Scientific › vertaisarvioitu

18 Sitaatiot (Scopus)
275 Lataukset (Pure)

Hakutulokset