Lanthanum doped hafnium oxide thin films deposited on a lateral high aspect ratio structure using atomic layer deposition: A comparative study of surface composition and uniformity using x-ray photoelectron spectroscopy and time-of-flight secondary ion mass spectrometry

Jennifer Emara*, Alireza M. Kia, Sascha Bönhardt, Clemens Mart, Kati Kühnel, Nora Haufe, Riikka L. Puurunen, Mikko Utriainen, Wenke Weinreich

*Tämän työn vastaava kirjoittaja

Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli › Article › Scientific › vertaisarvioitu

42 Lataukset (Pure)

Sormenjälki

Sukella tutkimusaiheisiin 'Lanthanum doped hafnium oxide thin films deposited on a lateral high aspect ratio structure using atomic layer deposition: A comparative study of surface composition and uniformity using x-ray photoelectron spectroscopy and time-of-flight secondary ion mass spectrometry'. Ne muodostavat yhdessä ainutlaatuisen sormenjäljen.

Material Science

Engineering