Iridium-coated micropore x-ray optics using dry etching of a silicon wafer and atomic layer deposition

Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

Tutkijat

  • T. Ogawa
  • Y. Ezoe
  • T. Moriyama
  • I. Mitsuishi
  • T. Kakiuchi
  • T. Ohashi
  • K. K.Mitsuda
  • Matti Putkonen

Organisaatiot

Yksityiskohdat

AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut5949-5956
JulkaisuApplied Optics
Vuosikerta52
Numeroxx
TilaJulkaistu - 2013
OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

ID: 873540