Investigation of sub-nm ALD aluminum oxide films by plasma assisted etch-through

Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

Tutkijat

Organisaatiot

Yksityiskohdat

AlkuperäiskieliEnglanti
JulkaisuThin Solid Films
Vuosikerta516
TilaJulkaistu - 2008
OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

    Tutkimusalat

  • alumina, RIE, thin films

ID: 3383683