Interlayer Exciton Lasing in Atomically Thin Heterostructures

Qiaoling Lin, Hanlin Fang, Yuanda Liu, Yi Zhang, Moritz Fischer, Juntao Li, Nicolas Stenger, Zhipei Sun, Martijn Wubs, Sanshui Xiao*

*Tämän työn vastaava kirjoittaja

Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussaKonferenssiesitysScientificvertaisarvioitu

Abstrakti

We present an interlayer exciton laser composed of a MoS2/WSe2 heterostructure integrated with a silicon photonic topological microcavity with a quality factor of up to 104. We achieve excitonic lasing with ultra-low threshold, high side-mode suppression ratio and the longest emission wavelength to the telecommunication O-band.

AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut1691
Sivumäärä1
TilaJulkaistu - 2023
OKM-julkaisutyyppiEi sovellu
TapahtumaInternational Conference on Metamaterials, Photonic Crystals and Plasmonics - Paris, Ranska
Kesto: 18 heinäk. 202321 heinäk. 2023
Konferenssinumero: 13

Conference

ConferenceInternational Conference on Metamaterials, Photonic Crystals and Plasmonics
LyhennettäMETA
Maa/AlueRanska
KaupunkiParis
Ajanjakso18/07/202321/07/2023

Sormenjälki

Sukella tutkimusaiheisiin 'Interlayer Exciton Lasing in Atomically Thin Heterostructures'. Ne muodostavat yhdessä ainutlaatuisen sormenjäljen.

Siteeraa tätä