Interfacial Reactions in the Ti/Si3N4 and TiN/Si Diffusion Couples

M. Paulasto, F.J.J. van Loo, J.K. Kivilahti

    Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

    35 Sitaatiot (Scopus)
    AlkuperäiskieliEnglanti
    Sivut4412-4416
    JulkaisuJournal of Applied Physics
    Vuosikerta77
    NumeroMay
    TilaJulkaistu - 1995
    OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

    Tutkimusalat

    • diffusion couples
    • silicon nitride
    • titanium

    Siteeraa tätä