Interfacial mechanical testing of atomic layer deposited TiO2 and Al2O3 on silicon substrate by the use of embedded SiO2 microspheres

Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

Tutkijat

Organisaatiot

Yksityiskohdat

AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut37320-37328
Sivumäärä9
JulkaisuRSC Advances
Vuosikerta4
Numero70
TilaJulkaistu - 2014
OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

    Tutkimusalat

  • adhesion, Al2O3, atomic layer deposition (ALD), cohesion, embedded microspheres, interfacial fracture, interfacial mechanical testing, interfacial strength, TiO2

ID: 709211