Interfacial mechanical testing of atomic layer deposited TiO2 and Al2O3 on silicon substrate by the use of embedded SiO2 microspheres

Jussi Lyytinen, Maria Berdova, Petri Hirvonen, Xuwen Liu, Sami Franssila, Quan Zhou, Jari Koskinen

Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

7 Sitaatiot (Scopus)
AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut37320-37328
Sivumäärä9
JulkaisuRSC Advances
Vuosikerta4
Numero70
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - 2014
OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

Tutkimusalat

  • adhesion
  • Al2O3
  • atomic layer deposition (ALD)
  • cohesion
  • embedded microspheres
  • interfacial fracture
  • interfacial mechanical testing
  • interfacial strength
  • TiO2

Laitteet

OtaNano

Anna Rissanen (Manager)

Aalto-yliopisto

Laitteistot/tilat: Facility

  • Siteeraa tätä