Influence of titanium-substrate roughness on Ca-P-O thin films grown by atomic layer deposition

Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

Tutkijat

  • A.R.Ananda Sagari
  • J. Malm
  • M. Laitinen
  • P. Rahkila
  • M. Hongqiang
  • M. Putkonen
  • M. Karppinen
  • H.J. Whitlow
  • T. Sajavaara

Organisaatiot

Yksityiskohdat

AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut26-31
JulkaisuThin Solid Films
Vuosikerta531
Numeroxx
TilaJulkaistu - 2013
OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

ID: 921097