Highly stable and conformal Ti-organic thin films from sustainable precursors via atomic/molecular layer deposition towards green energy applications

Anish Philip, Umaid Lone, Olga Partanen, Eero Haimi, Maarit Karppinen*

*Tämän työn vastaava kirjoittaja

Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

3 Lataukset (Pure)

Abstrakti

Thin-film deposition using sustainable precursors is required for various next-generation green energy applications. Here we report two atomic/molecular layer deposition processes for appreciably stable and conformal Ti-organic thin films and TiO2:organic superlattices with potential in e.g. battery, photocatalysis and thermoelectric applications. These processes are based on the safe and sustainable titanium isopropoxide as the titanium precursor.

AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut917-920
Sivumäärä4
JulkaisuChemical Communications
Vuosikerta61
Numero5
Varhainen verkossa julkaisun päivämäärä6 jouluk. 2024
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - 16 tammik. 2025
OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

Sormenjälki

Sukella tutkimusaiheisiin 'Highly stable and conformal Ti-organic thin films from sustainable precursors via atomic/molecular layer deposition towards green energy applications'. Ne muodostavat yhdessä ainutlaatuisen sormenjäljen.

Siteeraa tätä