Siirry päänavigointiin Siirry hakuun Siirry pääsisältöön

He Implantation Induced Nanovoids in Crystalline Si

  • University of Catania

Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

3 Sitaatiot (Scopus)
AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut164-167
Sivumäärä4
JulkaisuJournal of Materials Science and Engineering B
Vuosikerta159-160
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - 15 maalisk. 2009
OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

Tutkimusalat

  • He implantation
  • positron
  • Si

Siteeraa tätä