Gas Sensitive SnO_2 Thin Films by Atomic Layer Epitaxy

K. Kovacs, M. Utriainen, Cs. Ducsö, E.B. Varhegyi, M. Adam, L. Niinistö, F. Reti

    Tutkimustuotos: TyöpaperiWorking paperProfessional

    AlkuperäiskieliEnglanti
    Sivut89-91
    TilaJulkaistu - 1999
    OKM-julkaisutyyppiD4 Julkaistut kehitykset tai tutkimusraportit tai tutkimukset

    Julkaisusarja

    NimiVIth Nexuspan Workshop Microsystems Technology Activities in Baltic Region, Vilna, Liettua, April 23-24, 1999

    Tutkimusalat

    • ale
    • atomic layer epitaxy
    • in situ doping
    • selectivity
    • tin dioxide

    Siteeraa tätä