Formation Kinetics of Thermal Double Donors in Silicon

Y.J. Lee, J. von Boehm, R.M. Nieminen

Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussaConference contributionScientificvertaisarvioitu

AlkuperäiskieliEnglanti
OtsikkoXXXV Annual Conference of the Finnish Physical Society, March, 22-24, 2001
ToimittajatV. Kolhinen, K.J. Eskola
JulkaisupaikkaJyväskylä
Sivut9
TilaJulkaistu - 2001
OKM-julkaisutyyppiA4 Artikkeli konferenssijulkaisuussa

Tutkimusalat

  • kinetic simulation
  • silicon
  • thermal double donor

Siteeraa tätä

Lee, Y. J., von Boehm, J., & Nieminen, R. M. (2001). Formation Kinetics of Thermal Double Donors in Silicon. teoksessa V. Kolhinen, & K. J. Eskola (Toimittajat), XXXV Annual Conference of the Finnish Physical Society, March, 22-24, 2001 (Sivut 9).