First principles study of the atomic layer deposition of alumina by TMA/H2O-process

Timo Weckman, Kari Laasonen

    Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

    146 Lataukset (Pure)
    AlkuperäiskieliEnglanti
    Sivut17322-17334
    Sivumäärä13
    JulkaisuPhysical Chemistry Chemical Physics
    Vuosikerta17
    Numero26
    DOI - pysyväislinkit
    TilaJulkaistu - 2015
    OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

    Siteeraa tätä