Film Conformality and Extracted Recombination Probabilities of O Atoms during Plasma-Assisted Atomic Layer Deposition of SiO2, TiO2, Al2O3, and HfO2

Karsten Arts, Mikko Utriainen, Riikka L. Puurunen, Wilhelmus M.M. Kessels, Harm C.M. Knoops*

*Tämän työn vastaava kirjoittaja

Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

35 Sitaatiot (Scopus)
135 Lataukset (Pure)

Hakutulokset