Fast dry fabrication process with ultra thin atomic layer deposited mask for released MEMS-devices with high electromechanical coupling

Nikolai Chekurov; Mika Koskenvuori; Veli-Matti Airaksinen; Ilkka Tittonen

Fast dry fabrication process with ultra thin atomic layer deposited mask for released MEMS-devices with high electromechanical coupling

Nikolai Chekurov
, Mika Koskenvuori
, Veli-Matti Airaksinen
, Ilkka Tittonen

School of Electrical Engineering

Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussa › Conference article in proceedings › Scientific › vertaisarvioitu

1 Sitaatiot (Scopus)

Alkuperäiskieli	Englanti
Otsikko	Transducers'07 & Eurosensors XXI conference, Lyon, France, 10-14 June
Tila	Julkaistu - 2007
OKM-julkaisutyyppi	A4 Artikkeli konferenssijulkaisussa

YK:n kestävän kehityksen tavoitteet

Tämä tuotos edistää seuraavia kestävän kehityksen tavoitteita:

SDG 9 – Teollisuus, innovaatiot ja infrastruktuuri

Tutkimusalat

atomic layer deposition
cryogenic etching
fabrication
micromechanics

Siteeraa tätä

@inproceedings{90c1a16959524fffa37eebf4f4c89cc4,

title = "Fast dry fabrication process with ultra thin atomic layer deposited mask for released MEMS-devices with high electromechanical coupling",

keywords = "atomic layer deposition, cryogenic etching, fabrication, micromechanics, atomic layer deposition, cryogenic etching, fabrication, micromechanics, atomic layer deposition, cryogenic etching, fabrication, micromechanics",

author = "Nikolai Chekurov and Mika Koskenvuori and Veli-Matti Airaksinen and Ilkka Tittonen",

year = "2007",

language = "English",

booktitle = "Transducers'07 \& Eurosensors XXI conference, Lyon, France, 10-14 June",

}

Fast dry fabrication process with ultra thin atomic layer deposited mask for released MEMS-devices with high electromechanical coupling. / Chekurov, Nikolai; Koskenvuori, Mika; Airaksinen, Veli-Matti et al.
Transducers'07 & Eurosensors XXI conference, Lyon, France, 10-14 June. 2007.

Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussa › Conference article in proceedings › Scientific › vertaisarvioitu

TY - GEN

T1 - Fast dry fabrication process with ultra thin atomic layer deposited mask for released MEMS-devices with high electromechanical coupling

AU - Chekurov, Nikolai

AU - Koskenvuori, Mika

AU - Airaksinen, Veli-Matti

AU - Tittonen, Ilkka

PY - 2007

Y1 - 2007

KW - atomic layer deposition

KW - cryogenic etching

KW - fabrication

KW - micromechanics

KW - atomic layer deposition

KW - cryogenic etching

KW - fabrication

KW - micromechanics

KW - atomic layer deposition

KW - cryogenic etching

KW - fabrication

KW - micromechanics

M3 - Conference article in proceedings

BT - Transducers'07 & Eurosensors XXI conference, Lyon, France, 10-14 June

ER -