Fast dry fabrication process with ultra thin atomic layer deposited mask for released MEMS-devices with high electromechanical coupling

Nikolai Chekurov, Mika Koskenvuori, Veli-Matti Airaksinen, Ilkka Tittonen

Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussaConference contributionScientificvertaisarvioitu

1 Sitaatiot (Scopus)
AlkuperäiskieliEnglanti
OtsikkoTransducers'07 & Eurosensors XXI conference, Lyon, France, 10-14 June
TilaJulkaistu - 2007
OKM-julkaisutyyppiA4 Artikkeli konferenssijulkaisuussa

Tutkimusalat

  • atomic layer deposition
  • cryogenic etching
  • fabrication
  • micromechanics

Siteeraa tätä

Chekurov, N., Koskenvuori, M., Airaksinen, V-M., & Tittonen, I. (2007). Fast dry fabrication process with ultra thin atomic layer deposited mask for released MEMS-devices with high electromechanical coupling. teoksessa Transducers'07 & Eurosensors XXI conference, Lyon, France, 10-14 June