Siirry päänavigointiin Siirry hakuun Siirry pääsisältöön

Fabrication of Ultrathin Silicon Dioxide Layers in Ultra High Vacuum

  • T. Majamaa
  • , V-M. Airaksinen
  • , J. Sinkkonen

Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

8 Sitaatiot (Scopus)
AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut172-177
JulkaisuApplied Surface Science
Vuosikerta107
NumeroNov. II
TilaJulkaistu - 1996
OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

Tutkimusalat

  • plasma oxidation
  • ultra high vacuum
  • ultrathin silicon dioxide

Siteeraa tätä