Exploiting volatile lead compounds as precursors for the atomic layer deposition of lead dioxide thin films

Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

Tutkijat

  • Jenni Harjuoja
  • Matti Putkonen
  • Lauri Niinistö

Organisaatiot

Yksityiskohdat

AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut77-82
JulkaisuThin Solid Films
Vuosikerta497
Numero1-2
TilaJulkaistu - 2006
OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

    Tutkimusalat

  • Lead dioxide, Atomic Layer Deposition, ALD, Surface morphology

ID: 2417426