Erratum: Growth per cycle in atomic layer deposition: A theoretical model (Chemical Vapor Deposition (2003) 9 (249))

Tutkimustuotos: Muu tuotosScientificvertaisarvioitu

3 Sitaatiot (Scopus)

Abstrakti

Chemical Vapor Deposition Volume 10, Issue 3, June, 2004, Page 124
AlkuperäiskieliEnglanti
Sivumäärä1
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - kesäk. 2004

Sormenjälki

Sukella tutkimusaiheisiin 'Erratum: Growth per cycle in atomic layer deposition: A theoretical model (Chemical Vapor Deposition (2003) 9 (249))'. Ne muodostavat yhdessä ainutlaatuisen sormenjäljen.

Siteeraa tätä