Siirry päänavigointiin Siirry hakuun Siirry pääsisältöön

Electron Probe Microanalysis of Ni Silicides Using Ni-L X-Ray Lines

  • Xavier Llovet*
  • , Philippe T. Pinard
  • , Erkki Heikinheimo
  • , Seppo Louhenkilpi
  • , Silvia Richter
  • *Tämän työn vastaava kirjoittaja

Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

22 Viittaukset (Web of Science)

Abstrakti

We report electron probe microanalysis measurements on nickel silicides, Ni5Si2, Ni2Si, Ni3Si2, and NiSi, which were done in order to investigate anomalies that affect the analysis of such materials by using the Ni L3-M4,5 line (Lα). Possible sources of systematic discrepancies between experimental data and theoretical predictions of Ni L3-M4,5 k-ratios are examined, and special attention is paid to dependence of the Ni L3-M4,5 k-ratios on mass-attenuation coefficients and partial fluorescence yields. Self-absorption X-ray spectra and empirical mass-attenuation coefficients were obtained for the considered materials from X-ray emission spectra and relative X-ray intensity measurements, respectively. It is shown that calculated k-ratios with empirical mass attenuation coefficients and modified partial fluorescence yields give better agreement with experimental data, except at very low accelerating voltages. Alternatively, satisfactory agreement is also achieved by using the Ni L3-M1 line (Lℓ) instead of the Ni L3-M4,5 line.

AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut1233-1243
Sivumäärä11
Julkaisu Microscopy and Microanalysis
Vuosikerta22
Numero6
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - jouluk. 2016
OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

Sormenjälki

Sukella tutkimusaiheisiin 'Electron Probe Microanalysis of Ni Silicides Using Ni-L X-Ray Lines'. Ne muodostavat yhdessä ainutlaatuisen sormenjäljen.

Siteeraa tätä