Effect of substrate pretreatments on the atomic layer deposited Al2O3 passivation quality

Yameng Bao, Shuo Li, Guillaume von Gastrow, Päivikki Repo, Matti Putkonen, Hele Savin

Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

13 Sitaatiot (Scopus)
204 Lataukset (Pure)
AlkuperäiskieliEnglanti
Artikkeli01A123
Sivumäärä4
JulkaisuJournal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films
Vuosikerta33
Numero1
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - 2015
OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

Siteeraa tätä