Effect of substrate pretreatments on the atomic layer deposited Al2O3 passivation quality

Yameng Bao; Shuo Li; Guillaume von Gastrow; Päivikki Repo; Matti Putkonen; Hele Savin

doi:10.1116/1.4901456

Effect of substrate pretreatments on the atomic layer deposited Al2O3 passivation quality

Yameng Bao, Shuo Li, Guillaume von Gastrow, Päivikki Repo, Matti Putkonen, Hele Savin

Electron Physics Group (EPG)

Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli › Article › Scientific › vertaisarvioitu

13 Sitaatiot (Scopus)

204 Lataukset (Pure)

Alkuperäiskieli	Englanti
Artikkeli	01A123
Sivumäärä	4
Julkaisu	Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films
Vuosikerta	33
Numero	1
DOI - pysyväislinkit	https://doi.org/10.1116/1.4901456
Tila	Julkaistu - 2015
OKM-julkaisutyyppi	A1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

Pääsy asiakirjaan

10.1116/1.4901456

1.4901456Final published version, 745 KB

OpenUrl-saatavuus

Koko teksti

Muut tiedostot ja linkit

http://scitation.aip.org/content/avs/journal/jvsta/33/1/10.1116/1.4901456?showFTTab=true&containerItemId=content/avs/journal/jvsta

OtaNano
Anna Rissanen (Manager)
Aalto-yliopisto
Laitteistot/tilat: Facility
OtaNano Nanofab
Päivikki Repo (Manager)
OtaNano
Laitteistot/tilat: Facility

Siteeraa tätä

@article{2a8c6f840e23405eb8b662ba80a2b71d,

title = "Effect of substrate pretreatments on the atomic layer deposited Al2O3 passivation quality",

author = "Yameng Bao and Shuo Li and {von Gastrow}, Guillaume and P{\"a}ivikki Repo and Matti Putkonen and Hele Savin",

note = "VK: T40310",

year = "2015",

doi = "10.1116/1.4901456",

language = "English",

volume = "33",

journal = "JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A",

issn = "0734-2101",

publisher = "American Institute of Physics",

number = "1",

}

TY - JOUR

T1 - Effect of substrate pretreatments on the atomic layer deposited Al2O3 passivation quality

AU - Bao, Yameng

AU - Li, Shuo

AU - von Gastrow, Guillaume

AU - Repo, Päivikki

AU - Putkonen, Matti

AU - Savin, Hele

N1 - VK: T40310

PY - 2015

Y1 - 2015

UR - http://scitation.aip.org/content/avs/journal/jvsta/33/1/10.1116/1.4901456?showFTTab=true&containerItemId=content/avs/journal/jvsta

U2 - 10.1116/1.4901456

DO - 10.1116/1.4901456

M3 - Article

VL - 33

JO - JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A

JF - JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY A

SN - 0734-2101

IS - 1

M1 - 01A123

ER -

Effect of substrate pretreatments on the atomic layer deposited Al2O3 passivation quality

Pääsy asiakirjaan

OpenUrl-saatavuus

Muut tiedostot ja linkit

Laitteet

OtaNano

OtaNano Nanofab

Siteeraa tätä