Effect of ozone concentration on silicon surface passivation by atomic layer deposited Al2O3

Guillaume von Gastrow, Shuo Li, Matti Putkonen, Mikko Laitinen, Timo Sajavaara, Hele Savin

Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

17 Sitaatiot (Scopus)
212 Lataukset (Pure)

Hakutulokset