Effect of low-temperature annealing on defect causing copper-related light-induced degradation in p-type silicon

Henri Vahlman*, Antti Haarahiltunen, Wolfram Kwapil, Jonas Schön, Marko Yli-Koski, Alessandro Inglese, Chiara Modanese, Hele Savin

*Tämän työn vastaava kirjoittaja

Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussaConference contributionScientificvertaisarvioitu

1 Sitaatiot (Scopus)
237 Lataukset (Pure)

Hakutulokset