Siirry päänavigointiin Siirry hakuun Siirry pääsisältöön

Effect of Isothermal Aging and Electromigration on the Microstructural Evolution of Solder Interconnections During Thermomechanical Loading

Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

5 Sitaatiot (Scopus)
AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut3179-3195
JulkaisuJournal of Electronic Materials
Vuosikerta41
Numero11
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - 2012
OKM-julkaisutyyppiA1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

Tutkimusalat

  • electromigration
  • interfacial reactions

Siteeraa tätä