Determination of P/Al ratio in phosphorus-doped aluminium oxide thin films by XRF, RBS and FTIR

M. Nieminen, L. Niinistö, R. Lappalainen

    Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

    27 Sitaatiot (Scopus)
    AlkuperäiskieliEnglanti
    Sivut13-22
    JulkaisuMicrochimica Acta
    Vuosikerta119
    TilaJulkaistu - 1995
    OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

    Tutkimusalat

    • aluminium oxide
    • ftir
    • phosphorus
    • rbs
    • thin film
    • xrf

    Siteeraa tätä