Detection of iron contamination in internally gettered p-type silicon wafers by lifetime measurements

Antti Haarahiltunen, Hele Väinölä (Savin), Marko Yli-Koski, Eero Saarnilehto, Juha Sinkkonen

Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussaConference article in proceedingsScientificvertaisarvioitu

10 Sitaatiot (Scopus)
AlkuperäiskieliEnglanti
OtsikkoThe Electrochemical Society Proceedings
AlaotsikkoHigh purity silicon VIII
ToimittajatC. L. Claeys, M. Watanabe, R. Falster, P. Stallhofer
KustantajaElectrochemical Society
Sivut135-145
Vuosikerta5
TilaJulkaistu - 2004
OKM-julkaisutyyppiA4 Artikkeli konferenssijulkaisussa
TapahtumaElectrochemical Society Meeting - Honolulu, Yhdysvallat
Kesto: 3 lokak. 20048 lokak. 2004
Konferenssinumero: 206

Conference

ConferenceElectrochemical Society Meeting
LyhennettäECS
Maa/AlueYhdysvallat
KaupunkiHonolulu
Ajanjakso03/10/200408/10/2004

Tutkimusalat

  • diffusion length
  • internal gettering
  • iron
  • lifetime
  • silicon

Siteeraa tätä