Depth profiling of Al2O3 + TiO2 nanolaminates by means of a time-of-flight energy spectrometer

Mikko I. Laitinen*, T. Sajavaara, M. Rossi, J. Julin, R. L. Puurunen, T. Suni, T. Ishida, H. Fujita, K. Arstila, B. Brijs, H. J. Whitlow

*Tämän työn vastaava kirjoittaja

Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

13 Sitaatiot (Scopus)

Abstrakti

Atomic layer deposition (ALD) is currently a widespread method to grow conformal thin films with a sub-nm thickness control. By using ALD for nanolaminate oxides, it is possible to fine tune the electrical, optical and mechanical properties of thin films. In this study the elemental depth profiles and surface roughnesses were determined for Al2O3 + TiO2 nanolaminates with nominal single-layer thicknesses of 1, 2, 5, 10 and 20 nm and total thickness between 40 nm and 60 nm. The depth profiles were measured by means of a time-of-flight elastic recoil detection analysis (ToF-ERDA) spectrometer recently installed at the University of Jyväskylä. In TOF-E measurements 63Cu, 35Cl, 12C and 4He ions with energies ranging from 0.5 to 10 MeV, were used and depth profiles of the whole nanolaminate film could be analyzed down to 5 nm individual layer thickness.

AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut3021-3024
Sivumäärä4
JulkaisuNUCLEAR INSTRUMENTS AND METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B: BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS
Vuosikerta269
Numero24
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - 15 joulukuuta 2011
OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

Sormenjälki Sukella tutkimusaiheisiin 'Depth profiling of Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub> + TiO<sub>2</sub> nanolaminates by means of a time-of-flight energy spectrometer'. Ne muodostavat yhdessä ainutlaatuisen sormenjäljen.

Siteeraa tätä