Depth and profile control in plasma etched MEMS structures

J. Kiihamäki, H. Kattelus, S. Franssila

Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussaConference contributionScientificvertaisarvioitu

AlkuperäiskieliEnglanti
OtsikkoTransducers'99, Sendai, Japan, June 7-10, 1999
Sivutpaper 3A1.3
TilaJulkaistu - 1999
OKM-julkaisutyyppiA4 Artikkeli konferenssijulkaisuussa

Tutkimusalat

  • ARDE
  • ICP
  • silicon

Siteeraa tätä