Deposition of cerium dioxide thin films on silicon substrates by atomic layer epitaxy

Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussavertaisarvioitu

Tutkijat

  • H. Mölsä
  • L. Niinistö

Organisaatiot

Yksityiskohdat

AlkuperäiskieliEnglanti
OtsikkoMaterials Research Society Fall Meeting, Boston, USA, 29.11-3.12.1993
TilaJulkaistu - 1993
OKM-julkaisutyyppiA4 Artikkeli konferenssijulkaisuussa

    Tutkimusalat

  • atomic layer epitaxy (ALE), cerium dioxide, deposition, thin films

ID: 5071864