Deposition of cerium dioxide thin films on silicon substrates by atomic layer epitaxy

H. Mölsä, L. Niinistö

    Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussaChapterScientificvertaisarvioitu

    30 Sitaatiot (Scopus)
    AlkuperäiskieliEnglanti
    OtsikkoMater.Res.Soc.Symp.Proc.Vol. 335, Metal-organic chemical vapor deposition of electronic ceramics
    ToimittajatS.B. Desu, D.B. Beach, B.W. Wessels, S. Gokoglu
    JulkaisupaikkaPittsburgh, Pennsylvania, USA
    KustantajaMaterial Research Society
    Sivut341-350
    TilaJulkaistu - 1994
    OKM-julkaisutyyppiA3 Kirjan osa tai toinen tutkimuskirja

    Tutkimusalat

    • atomic layer epitaxy
    • cerium dioxide
    • silicon substrate
    • thin film

    Siteeraa tätä