Deposition of bismuth silicate thin films for buffer layers by atomic layer deposition

Jenni Harjuoja, Matti Putkonen, Lauri Niinistö

Tutkimustuotos: Työpaperi › Working paper › Professional

Alkuperäiskieli	Englanti
Julkaisupaikka	Helsinki
Sivut	90
Tila	Julkaistu - 2004
OKM-julkaisutyyppi	D4 Julkaistu kehittämis- tai tutkimusraportti taikka -selvitys

Nimi	AVS Topical Conference on Atomic Layer Deposition, Helsinki, August 16-18, 2004
Kustantaja	American Vacuum Society

Siteeraa tätä

@techreport{734dbb1f07d04d619495a7a786da783a,

title = "Deposition of bismuth silicate thin films for buffer layers by atomic layer deposition",

author = "Jenni Harjuoja and Matti Putkonen and Lauri Niinist{\"o}",

year = "2004",

language = "English",

series = "AVS Topical Conference on Atomic Layer Deposition, Helsinki, August 16-18, 2004",

publisher = "American Vacuum Society",

pages = "90",

type = "WorkingPaper",

institution = "American Vacuum Society",

}

TY - UNPB

T1 - Deposition of bismuth silicate thin films for buffer layers by atomic layer deposition

AU - Harjuoja, Jenni

AU - Putkonen, Matti

AU - Niinistö, Lauri

PY - 2004

Y1 - 2004

M3 - Working paper

T3 - AVS Topical Conference on Atomic Layer Deposition, Helsinki, August 16-18, 2004

SP - 90

BT - Deposition of bismuth silicate thin films for buffer layers by atomic layer deposition

CY - Helsinki

ER -