Decreasing Interface Defect Densities via Silicon Oxide Passivation at Temperatures Below 450 C

Zahra Jahanshah Rad, Juha-Pekka Lehtiö, Iris Mack, Kawa Rosta, Kexun Chen, Ville Vähänissi, Marko P.J. Punkkinen, Risto Punkkinen, Hannu-Pekka Hedman, Andrei Pavlov, Mikhail V. Kuzmin, Hele Savin, Pekka J. Laukkanen, Kalevi Kokko