Controlling Penetration Depth in Projection Stereolithography by Adjusting the Operation Wavelength

Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

Tutkijat

Organisaatiot

Yksityiskohdat

AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut756-762
Sivumäärä7
JulkaisuKey Engineering Materials
Vuosikerta611-612
TilaJulkaistu - 2014
OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

    Tutkimusalat

  • Stereolithography

ID: 913098