Controlled surface cleaning of MACE-nanotextured Ge for cost-efficient high-performance UV-SWIR photodetection

^*Tämän työn vastaava kirjoittaja

Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussa › Abstract › Scientific › vertaisarvioitu

Alkuperäiskieli	Englanti
Tila	Hyväksytty/In press - 2026
OKM-julkaisutyyppi	Ei sovellu
Tapahtuma	Conference on Gettering and Defect Engineering in Semiconductor Technology - Venice, Italia Kesto: 27 syysk. 2026 → 2 lokak. 2026 Konferenssinumero: 21

Conference	Conference on Gettering and Defect Engineering in Semiconductor Technology
Lyhennettä	GADEST
Maa/Alue	Italia
Kaupunki	Venice
Ajanjakso	27/09/2026 → 02/10/2026

NIR-REM: Kustannustehokkaat ja erittäin herkät nanokuvioidut NIR detektoriteknologiat - Valmiina markkinoille?
Vähänissi, V. (Vastuullinen johtaja), Liu, H. (Projektin jäsen), Yli-Koski, M. (Projektin jäsen), Lahtiluoma, L. (Projektin jäsen), Setälä, O. (Projektin jäsen), Sutinen, K. (Projektin jäsen) & Gosalvez, S. (Projektin jäsen)
01/01/2025 → 31/12/2026
Projekti: RCF Academy Project

OtaNano
Rissanen, A. (Manager)
Aalto-yliopisto
Laitteistot/tilat: Facility
OtaNano Nanofab
Repo, P. (Manager) & Rissanen, A. (Other)
OtaNano
Laitteistot/tilat: Facility

Siteeraa tätä

@conference{1163715bc9354f75b4a48fa0ecd21bdb,

title = "Controlled surface cleaning of MACE-nanotextured Ge for cost-efficient high-performance UV-SWIR photodetection",

author = "Mariia Terletskaia and Hanchen Liu and Xiaolong Liu and Ville V{\"a}h{\"a}nissi and Hele Savin",

year = "2026",

language = "English",

note = "Conference on Gettering and Defect Engineering in Semiconductor Technology, GADEST ; Conference date: 27-09-2026 Through 02-10-2026",

}

Controlled surface cleaning of MACE-nanotextured Ge for cost-efficient high-performance UV-SWIR photodetection. / Terletskaia, Mariia; Liu, Hanchen; Liu, Xiaolong et al.
2026. Abstraktin lähde: Conference on Gettering and Defect Engineering in Semiconductor Technology, Venice, Italia.

Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussa › Abstract › Scientific › vertaisarvioitu

TY - CONF

T1 - Controlled surface cleaning of MACE-nanotextured Ge for cost-efficient high-performance UV-SWIR photodetection

AU - Terletskaia, Mariia

AU - Liu, Hanchen

AU - Liu, Xiaolong

AU - Vähänissi, Ville

AU - Savin, Hele

N1 - Conference code: 21

PY - 2026

Y1 - 2026

M3 - Abstract

T2 - Conference on Gettering and Defect Engineering in Semiconductor Technology

Y2 - 27 September 2026 through 2 October 2026

ER -