Controlled Growth of Yttrium Oxysulphide Thin Films by Atomic Layer Epitaxy

K. Kukli, M. Peussa, L.-S. Johansson, E. Nykänen, L. Niinistö

    Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

    AlkuperäiskieliEnglanti
    Sivut216-221
    JulkaisuMaterials Science Forum
    Vuosikerta315-317
    TilaJulkaistu - 1999
    OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

    Tutkimusalat

    • ale
    • atomic layer epitaxy
    • thin film
    • yttrium oxysulfide

    Siteeraa tätä