Controlled growth of tin dioxide thin films by atomic layer epitaxy

H. Viirola, L. Niinistö

    Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

    57 Sitaatiot (Scopus)
    AlkuperäiskieliEnglanti
    Sivut144-149
    JulkaisuThin Solid Films
    Vuosikerta249
    TilaJulkaistu - 1994
    OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

    Tutkimusalat

    • ALE
    • thin films
    • tin dioxide

    Siteeraa tätä