Controlled growth of neodymium oxide by atomic layer deposition

Anne Kosola, Jani Päiväsaari, Matti Putkonen, Lauri Niinistö

    Tutkimustuotos: TyöpaperiWorking paperProfessional

    AlkuperäiskieliEnglanti
    JulkaisupaikkaTartu, Estonia
    Sivut33
    TilaJulkaistu - 2002
    OKM-julkaisutyyppiD4 Julkaistut kehitykset tai tutkimusraportit tai tutkimukset

    Julkaisusarja

    NimiThe Fifth Baltic Symposium on Atomic Layer Deposition (BALD-5), Tartu, Estonia, 24-26 October 2002
    KustantajaInstitute of Physics, University of Tartu

    Tutkimusalat

    • ALD
    • neodymium oxide
    • silicon technology

    Siteeraa tätä