Controlled formation of thin V_(2)O_(5) layers on silica by Atomic Layer Deposition

Jetta Keränen, Satu Ek, Eero Iiskola, A. Aroux, Lauri Niinistö

    Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussaConference contributionScientificvertaisarvioitu

    AlkuperäiskieliEnglanti
    Otsikko2nd Int. Conference on Silica 2001, september 3-6.2001, Mulhouse France
    TilaJulkaistu - 2001
    OKM-julkaisutyyppiA4 Artikkeli konferenssijulkaisuussa

    Tutkimusalat

    • ALD
    • atomic layer deposition
    • dispersion
    • silica
    • supported vanadium oxide

    Siteeraa tätä