Conformality of atomic layer deposition in microchannels: impact of process parameters on the simulated thickness profile

Hakutulokset

• Aktiivinen

  ALDI: Reactive flow in porous media: modelling and experiments in atomic layer deposition context

  Puurunen, R., Revitzer, H., Viinikainen, T., Gonsalves, C., Velasco Calsina, J., Yim, J., Miikkulainen, V. & Ossama, M.

  01/09/2020 → 31/08/2024

  Projekti: Academy of Finland: Other research funding

  • Atomic Layer Deposition 100%
  • Atomic Layer Epitaxy 90%
  • Conformality 55%
  • High Aspect Ratio 32%
  • Saturation 27%

• Renable Carbon Cycle - Uusiutuva hiilikierto: Hiilidioksidin muuntaminen polttoaineiksi räätälöytyjen heterogeenisten katalyyttien avulla

  Puurunen, R., Arandia Gutierrez, A., Viinikainen, T., Revitzer, H., Sajid, A., Chahal, A., Yim, J., Karinen, R., Haimi, E., Velasco Calsina, J., Kattelus, J., Gonsalves, C. & Kumar Singh, A.

  01/01/2020 → 31/12/2023

  Projekti: Academy of Finland: Other research funding

  • Atomic Layer Epitaxy 100%
  • Atomic Layer Deposition 95%
  • Conformality 63%
  • High Aspect Ratio 51%
  • Saturation 42%