Conformality of atomic layer deposition in microchannels: impact of process parameters on the simulated thickness profile

Jihong Yim, Emma Verkama, Jorge A. Velasco, Karsten Arts, Riikka L. Puurunen*

*Tämän työn vastaava kirjoittaja

Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli › Article › Scientific › vertaisarvioitu

10 Sitaatiot (Scopus)
50 Lataukset (Pure)

Sormenjälki

Sukella tutkimusaiheisiin 'Conformality of atomic layer deposition in microchannels: impact of process parameters on the simulated thickness profile'. Ne muodostavat yhdessä ainutlaatuisen sormenjäljen.

Engineering

Chemistry

Material Science