Conducting Nb-doped TiO2 thin films fabricated with an atomic layer deposition technique

Tutkimustuotos: Lehtiartikkelivertaisarvioitu

Tutkijat

Organisaatiot

Yksityiskohdat

AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut19-22
JulkaisuThin Solid Films
Vuosikerta551
Numeroxx
TilaJulkaistu - 2014
OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

ID: 761704