Comparison of mechanical properties and composition of magnetron sputter and plasma enhanced atomic layer deposition aluminum nitride films

Perttu Sippola*, Alexander Pyymaki Perros, Oili M.E. Ylivaara, Helena Ronkainen, Jaakko Julin, Xuwen Liu, Timo Sajavaara, Jarkko Etula, Harri Lipsanen, Riikka L. Puurunen

*Tämän työn vastaava kirjoittaja

Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

9 Sitaatiot (Scopus)
269 Lataukset (Pure)

Hakutulokset