Comparison of HfO2 Thin Films Grown by ALD Using Cp2Hf(CH3)2 and Water or Ozone as Precursors

Jaakko Niinistö, Matti Putkonen, Lauri Niinistö

    Tutkimustuotos: TyöpaperiWorking paperProfessional

    AlkuperäiskieliEnglanti
    JulkaisupaikkaHelsinki
    TilaJulkaistu - 2004
    OKM-julkaisutyyppiD4 Julkaistut kehitykset tai tutkimusraportit tai tutkimukset

    Julkaisusarja

    NimiThe AVS Topical Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2004), Helsinki, Finland, August, 16-18, 2004
    KustantajaAmerican vacuum society (AVS)

    Siteeraa tätä