Comparison of atomic layer deposition of SnO_(2) from SnI_(4) and O_(2) on different substrates

Aivar Tarre, Jenni Harjuoja, Aleks Aidla, Teet Uustare, Jaan Aarik, Arnold Rosental, Lauri Niinistö

    Tutkimustuotos: TyöpaperiWorking paperProfessional

    AlkuperäiskieliEnglanti
    JulkaisupaikkaHelsinki
    Sivut152
    TilaJulkaistu - 2004
    OKM-julkaisutyyppiD4 Julkaistut kehitykset tai tutkimusraportit tai tutkimukset

    Julkaisusarja

    NimiAVS Topical Conference on Atomic Layer Deposition, Helsinki, August 16-18, 2004
    KustantajaAmerican Vacuum Society

    Tutkimusalat

    • ALD
    • atomic layer deposition
    • thin films

    Siteeraa tätä