Blocking the Lateral Film Growth at the Nanoscale in Area-Selective Atomic Layer Deposition

Robin H.A. Ras, Elina Sahramo, Jari Malm, Janne Raula, Maarit Karppinen

Tutkimustuotos: Lehtiartikkeli › Article › Scientific › vertaisarvioitu

50 Sitaatiot (Scopus)

Alkuperäiskieli	Englanti
Sivut	11252-11253
Sivumäärä	2
Julkaisu	Journal of the American Chemical Society
Vuosikerta	130
Numero	34
DOI - pysyväislinkit	https://doi.org/10.1021/ja803471g
Tila	Julkaistu - 2008
OKM-julkaisutyyppi	A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

Pääsy asiakirjaan

@article{58dd86b1f44e4c77af887c254a2faa1e,

title = "Blocking the Lateral Film Growth at the Nanoscale in Area-Selective Atomic Layer Deposition",

author = "Ras, {Robin H.A.} and Elina Sahramo and Jari Malm and Janne Raula and Maarit Karppinen",

year = "2008",

doi = "10.1021/ja803471g",

language = "English",

volume = "130",

pages = "11252--11253",

journal = "Journal of the American Chemical Society",

issn = "0002-7863",

publisher = "American Chemical Society",

number = "34",

}

TY - JOUR

T1 - Blocking the Lateral Film Growth at the Nanoscale in Area-Selective Atomic Layer Deposition

AU - Ras, Robin H.A.

AU - Sahramo, Elina

AU - Malm, Jari

AU - Raula, Janne

AU - Karppinen, Maarit

PY - 2008

Y1 - 2008

UR - http://dx.doi.org/10.1021/ja803471g

U2 - 10.1021/ja803471g

DO - 10.1021/ja803471g

M3 - Article

SN - 0002-7863

VL - 130

SP - 11252

EP - 11253

JO - Journal of the American Chemical Society

JF - Journal of the American Chemical Society

IS - 34

ER -