Blistering effect in ALD Al2O3 thin films grown with timethylaluminum and water

Maria Berdova, Ville Rontu, Timo Sajavaara, Antti-Pekka Eskelinen, Sami Franssila

Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussaKonferenssiesitysScientific

AlkuperäiskieliEnglanti
TilaJulkaistu - 12 toukokuuta 2014
OKM-julkaisutyyppiEi oikeutettu
TapahtumaInternational Baltic Conference on Atomic Layer Deposition - Helsinki, Suomi
Kesto: 12 toukokuuta 201413 toukokuuta 2014
Konferenssinumero: 12

Conference

ConferenceInternational Baltic Conference on Atomic Layer Deposition
LyhennettäBaltic ALD
MaaSuomi
KaupunkiHelsinki
Ajanjakso12/05/201413/05/2014

Laitteet

OtaNano

Anna Rissanen (Manager)

Aalto-yliopisto

Laitteistot/tilat: Facility

  • Siteeraa tätä

    Berdova, M., Rontu, V., Sajavaara, T., Eskelinen, A-P., & Franssila, S. (2014). Blistering effect in ALD Al2O3 thin films grown with timethylaluminum and water. Julkaisun esittämispaikka: International Baltic Conference on Atomic Layer Deposition, Helsinki, Suomi.