Atomistic simulations of the implantation of low energy boron and nitrogen ions into graphene

E. Harriet Åhlgren, J. Kotakoski, A.V. Krasheninnikov

Tutkimustuotos: LehtiartikkeliArticleScientificvertaisarvioitu

104 Sitaatiot (Scopus)
AlkuperäiskieliEnglanti
Sivut115424
JulkaisuPhysical Review B
Vuosikerta83
Numero11
DOI - pysyväislinkit
TilaJulkaistu - 2011
OKM-julkaisutyyppiA1 Julkaistu artikkeli, soviteltu

Tutkimusalat

  • graphene
  • ion irradiation

Siteeraa tätä