Atomistic simulations of surface coverage effects in anisotropic wet chemical etching of crystalline silicon

Miguel Gosálvez, Adam Foster, Risto Nieminen

Tutkimustuotos: Artikkeli kirjassa/konferenssijulkaisussaConference contributionScientificvertaisarvioitu

AlkuperäiskieliEnglanti
Otsikko3rd Workshop on Physical Chemistry of Wet Etching of Silicon, Nara, Japan, June 4-6, 2002
ToimittajatK. Sato
Sivut37-40
TilaJulkaistu - 2002
OKM-julkaisutyyppiA4 Artikkeli konferenssijulkaisuussa

Tutkimusalat

  • anisotropic wet chemical etching
  • cellular automaton
  • surface coverage
  • surface termination

Siteeraa tätä